초고순도암모니아(NH3)
용도
WAFER의 질화막(SiNx, GaN) 형성, CVD공정의 Chamber cleaning관련링크
본문
정제플랜트 제조능력
5N5 Grade : 1,600 ton/년
7N Grade : 1,200 ton/년
공급방식
용기(L) | 충전량-밸브규격 | 용기(L) | 충전량-밸브규격 |
포장규격
항 목 | 5N5 Grade | 7N Grade | |
순 도 | NG₃ | ≥99.9995% | ≥99.99999% |
수 분 | H₂O | ≤500 ppbv | ≤60 ppbv |
기 체 불순물 | H₂ | ≤100 ppbv | ≤50 ppbv |
O₂ | ≤500 ppbv | ≤10 ppbv | |
N₂ | ≤500 ppbv | ≤10 ppbv | |
CH₄ | ≤500 ppbv | ≤10 ppbv | |
CO | ≤100 ppbv | ≤10 ppbv | |
CO₂ | ≤100 ppbv | ≤50 ppbv | |
