반도체가스
용도
CVD용 가스, 실란계 가스, 에칭, 크리닝용 가스 등관련링크
본문
반도체 및 유사공정(Dlode, Transister, IC, LSI, 피냐, LCD 등)에 사용되는 가스를 말하여,
실란계가스 등을 비롯해 Carrlet 가스에 이르기까지 많은 종류의 가스가 사용되고 있습니다.
가스의 특성을 보면 가연성, 폭발성, 유독성인 것들이 많으므로 취급에 있어서 특히 주의를 요합니다.
당사에서는 국내제조 및 독점 수입을 통해 안정적으로 거래처에 반도체 가스를 공급합니다.
종류
CVD용 가스
NH3, CH4, N2O, WF6
실란계 가스
SlH4, Sl2H6, SiCl4, Sicl3H, SiCl2H2, SiF4
도핑용
ASH3, B2H6, H2Se, PH3, G도4
에칭, 크리닝용 가스
HCl, Cl2, BCl3, C3F8, HBr, NF3, SF6, CF4, C2F6, C4F8, CHF3
이온주입용 가스
ASH3/H2, PH3, PH3/H2, BF3, He, N2, Ar, H2
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